金庸十六招式（shì）趣味解讀手板模型工藝

發布日期：2016-04-11 08:03:04

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葵花寶典——真空電鍍

真（zhēn）空電鍍（Vacuum Metalizing）：一種物理（lǐ）沉積現象。即在（zài）真空狀（zhuàng）態下注入氬氣，氬氣（qì）撞擊靶材，靶材分離成分（fèn）子被導電的貨品吸（xī）附形成一層均勻光滑的仿金屬（shǔ）表麵層。

典型產品（pǐn）：反射塗（tú）層，消費電（diàn）子產品和隔熱板的表麵處理
產量適合：單（dān）件到大批量皆可
質量：高質量，高亮和產（chǎn）品（pǐn）表麵保護（hù）層
速度：中等的生產速度，6小時/周期（包括（kuò）噴漆）
適用材（cái）料：1、很多材料可以進行真空電鍍，包括金屬，軟硬塑料，複合材料，陶瓷和玻璃。其中最常見用於電鍍表麵處理的是鋁材（cái），其（qí）次是銀和銅（tóng）。

2、自（zì）然材（cái）料（liào）不適合進行真空電（diàn）鍍處理，因為自然材料本身的水分會影響真空（kōng）環境

工藝成本：真（zhēn）空電鍍非常依賴人工操作，真（zhēn）空電鍍過程中，工件需要噴塗，裝載，卸載和（hé）再噴塗，所以人力成本相當高，但是也取決於工（gōng）件的複雜度和數（shù）量。
環境影響：真空電鍍對環境汙染很小，類似於噴塗（tú）對環境的影響。

實例展示：

香水瓶的真空電鍍

獨孤九（jiǔ）劍——電解拋光

電解拋光（Electropolishing）：以被拋光工件為陽極，不溶性金屬為陰（yīn）極，兩極（jí）同時浸（jìn）入到電解槽中，通（tōng）以直流電離反應（yīng）而產生有選擇性的陽極溶（róng）解，從而達到工件表麵除去細微毛刺和光亮度增大的（de）效果。

典型產品：建築（zhù）結構，食物處理（lǐ）儲存和（hé）醫療製藥
產量（liàng）適合：單件到（dào）大批量皆可
質（zhì）量：表麵高亮，光滑且衛生
速度：中（zhōng）等的生產速度，5-30分鍾/周期
適用材料：1.大多數金（jīn）屬都可以被電解拋光，其中最常用於（yú）不鏽鋼的表麵（miàn）拋（pāo）光（尤（yóu）其（qí）適用於奧氏體核級不鏽鋼）。

2.不同材料不可同時（shí）進行（háng）電解（jiě）拋光，甚至不可以放在同一個電解溶劑裏（lǐ）。

工藝成本：電解拋光整個（gè）過程基本由自動化完成，所以人工費用很低。
環境影響：電解拋光（guāng）采用危害較小（xiǎo）的化學物質，整個過程需要少量的（de）水且操作簡單，另外可以延長不鏽鋼的屬（shǔ）性，起到讓不鏽鋼延緩腐蝕的（de）作用。

實例展示

其他產品電解拋（pāo）光

九陰真經——光蝕刻表麵處理（lǐ）

光蝕刻表（biǎo）麵處理（Photo Etching）：簡稱光刻，利用（yòng）照相手段製作（zuò）抗蝕膜像（xiàng），用來保護表麵，在金（jīn）屬、塑料等上麵，借助化學腐蝕劑進行（háng）腐蝕產生表麵紋理（lǐ）的方法。

典型產品：用於珠寶首飾，銘牌和獎杯的表麵處理
產量適（shì）合：單件到大批量皆可
質量（liàng）：延長曝光和化學物質都可以實現光蝕刻表麵處理
速度：中等的生產速度（50-100微米/5分（fèn）鍾）
適用（yòng）材料：1.大多是金屬都適合光蝕刻（kè）表麵處理，最常見的有不鏽（xiù）鋼（gāng），軟鋼，鋁，黃銅（tóng），鎳，錫，銅和銀。其中鋁材的光蝕刻速度最快，而不（bú）鏽鋼（gāng）的光（guāng）蝕刻速（sù）度（dù）最慢。

2.玻璃，陶瓷也適合光（guāng）蝕刻表麵處理，隻（zhī）是需要不同的光阻蝕（shí）劑和化學物（wù）質。

工（gōng）藝成本：1.模具費用低2.人力成本中等
環境影響：光（guāng）蝕刻產生的金屬廢屑須做可（kě）控回收;用於光蝕刻的化學物質（zhì）還有三分之一的氯化鐵（tiě），而且也會用苛性鈉（火堿）來處理廢棄的感（gǎn）光膠（jiāo）片，這兩種化學物質都（dōu）是有害的，所以操作人員在（zài）處理時需要穿防護服。

實例展示

金屬（shǔ）標牌的光蝕刻

九陽神功——移印工（gōng）藝

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