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金庸十六招式趣味解讀手板模型工藝
發布日期:2016-04-11 08:03:04
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1
葵花寶典——真空電鍍
真空電鍍(Vacuum Metalizing):一種物理沉積現象。即在真空狀態下注入氬(yà)氣,氬氣撞擊靶(bǎ)材,靶材(cái)分離(lí)成分子被導電的貨品吸附形成一(yī)層均勻光滑的仿金屬表麵層。
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典型(xíng)產品:反射塗層,消費電子(zǐ)產品和隔熱板的表麵(miàn)處(chù)理
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產量適合:單件到(dào)大批量皆可(kě)
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質量:高質量,高亮和產品表麵保護層
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速度(dù):中等的生產速度,6小(xiǎo)時/周期(包括噴漆)
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適用材料:1、很多材料(liào)可(kě)以進(jìn)行真空電鍍,包括(kuò)金屬,軟硬塑料,複合材料,陶瓷和玻璃。其中最常見用於電鍍表麵處理的是鋁材(cái),其(qí)次是(shì)銀和(hé)銅。
2、自然材料不適合進行真空電鍍處理,因為自然材料本身的水(shuǐ)分會影響(xiǎng)真空(kōng)環境
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工藝成本:真空(kōng)電鍍非(fēi)常依賴(lài)人工操作,真空電鍍過程中,工件需要噴塗,裝載,卸載和再噴塗,所以人力成本相當高,但是也取決於工件的複雜度和(hé)數量。
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環境影響:真空電鍍對環境汙染很小,類似於(yú)噴塗對環境(jìng)的影響(xiǎng)。
實(shí)例展(zhǎn)示:
香水瓶的真空電(diàn)鍍
2
獨孤九劍——電解拋光
電解拋(pāo)光(Electropolishing):以被拋光工件為陽極,不溶性金(jīn)屬為陰(yīn)極,兩極同時浸入到電解(jiě)槽中,通以直流電離反應而產生有選擇性(xìng)的陽(yáng)極(jí)溶解,從(cóng)而達到工件表麵除去細微毛刺和光亮度增大的效果。
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典型產品:建(jiàn)築結構,食物處理儲存和醫療製藥
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產(chǎn)量適合:單件到大批量皆可
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質量:表麵(miàn)高亮(liàng),光滑且(qiě)衛(wèi)生
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速度:中等(děng)的生產速度,5-30分(fèn)鍾/周期
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適用(yòng)材料:1.大多數金屬都可以被電解拋光,其中最常用於不鏽鋼的表麵拋光(尤其適(shì)用於奧氏體核級不鏽鋼)。
2.不同材料不可同時進行電解拋光,甚至不可以放在同一個電解溶劑裏。
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工藝成本:電(diàn)解拋光整個過程基本由自動化完成,所(suǒ)以人工費用很低(dī)。
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環境影響:電解拋光采(cǎi)用(yòng)危(wēi)害較小(xiǎo)的化學物質,整個(gè)過程需要少(shǎo)量的水且操作簡單,另外可以延長不鏽鋼的屬性,起到讓不鏽鋼延緩腐蝕的作用。
實例展示
其他產品電解拋(pāo)光
3
九陰真經——光蝕刻表麵處理
光蝕刻表麵處理(Photo Etching):簡稱光刻,利用照相手段製作抗蝕膜像,用來保護表麵(miàn),在金屬、塑料等上麵,借助化學腐蝕劑進行腐蝕產(chǎn)生表麵紋理(lǐ)的方法。
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典型產品(pǐn):用於珠寶首飾,銘牌和獎杯的表麵處理
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產量(liàng)適合(hé):單件到大(dà)批量皆可
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質(zhì)量:延長(zhǎng)曝光和化學物(wù)質都(dōu)可以(yǐ)實現光蝕刻表麵處理
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速度:中等的生產速度(50-100微米/5分鍾)
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適用材料:1.大多(duō)是金屬都適(shì)合光蝕刻表麵處理,最常見的有不鏽鋼,軟鋼,鋁,黃(huáng)銅,鎳,錫,銅(tóng)和銀。其中鋁材的光(guāng)蝕刻速(sù)度最快,而不鏽鋼的光蝕刻速度最慢。
2.玻(bō)璃,陶瓷也適合光蝕刻表麵處理,隻是需要不同的光阻蝕(shí)劑和化學物質。
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工藝成本:1.模(mó)具費用低2.人力成本中等(děng)
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環境(jìng)影響:光蝕刻產生的金屬廢屑須做(zuò)可(kě)控回收;用於光蝕刻的化學物質還有三分之一的(de)氯化鐵,而(ér)且也會用(yòng)苛性鈉(火堿)來處理廢棄的感光膠片,這兩種化學物質都是有害的,所以操作人員在處理時(shí)需要穿防(fáng)護服。
實例展示
金屬標牌的光蝕刻
4
九陽神(shén)功——移(yí)印工藝
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