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金庸十六招式趣味解讀手板模型工藝
發布日期:2016-04-11 08:03:04
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1
葵花寶典——真空電鍍
真空電鍍(Vacuum Metalizing):一種物理沉積現象。即(jí)在真空狀(zhuàng)態下注入氬(yà)氣(qì),氬氣撞擊靶(bǎ)材(cái),靶材分離成分子被導電的貨品吸附(fù)形成一(yī)層均(jun1)勻光滑的仿金屬表麵(miàn)層。
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典(diǎn)型產(chǎn)品:反射塗層,消費電子產品和隔熱板的表麵處理
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產(chǎn)量適合:單件到大批量皆可
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質量:高質量,高亮和產品表麵保(bǎo)護層
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速度(dù):中等的生產速度,6小時/周期(包括噴漆)
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適用材料:1、很多材(cái)料可以(yǐ)進行(háng)真空電鍍,包括金屬,軟硬塑料,複合材料,陶瓷和玻璃。其中最常見用於電鍍表麵處理的是鋁材,其次是銀和銅。
2、自然材料不適合進行真(zhēn)空電鍍處理(lǐ),因為自然材料本身的水分會影響真空環境
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工藝成本:真空電(diàn)鍍非常依賴人工操作,真(zhēn)空電鍍(dù)過程中,工件需要噴塗,裝載,卸載和再(zài)噴塗,所以人力成本相當高,但是也取決於工件的複雜(zá)度和數量。
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環境影響:真空電(diàn)鍍(dù)對(duì)環境汙染很小,類(lèi)似於噴塗對環境的影(yǐng)響。
實例展示:
香水(shuǐ)瓶(píng)的真空(kōng)電鍍
2
獨孤(gū)九劍——電(diàn)解拋光(guāng)
電解拋光(guāng)(Electropolishing):以被拋(pāo)光(guāng)工件為陽極,不溶性(xìng)金屬為陰極,兩極同時浸入到電解(jiě)槽中,通以(yǐ)直流(liú)電離反應而產生有(yǒu)選擇性的陽(yáng)極溶解(jiě),從而達(dá)到工件表麵除去細微毛刺和光亮度增大的效果。
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典型產品:建(jiàn)築結(jié)構,食物處理儲(chǔ)存和醫(yī)療製藥
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產量適合:單件到(dào)大批量皆可(kě)
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質(zhì)量:表麵高亮,光滑且(qiě)衛生
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速度:中(zhōng)等的生產速度,5-30分鍾/周期
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適用材料:1.大多(duō)數金屬都可以被電解拋光,其中最常用於不鏽鋼(gāng)的表麵拋光(尤其適用於(yú)奧氏體核級不鏽鋼)。
2.不同材料不可同時進行電(diàn)解拋光,甚至不可以(yǐ)放在同一個電解溶(róng)劑裏。
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工藝成本:電解拋光整個過程基本由自動化(huà)完(wán)成,所以人工費用很低。
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環境影響(xiǎng):電解拋光采用(yòng)危害較小的化學物質,整個過程(chéng)需要(yào)少量的水且操作簡單,另外可以(yǐ)延長不(bú)鏽鋼的屬性,起(qǐ)到讓不鏽鋼延緩腐蝕(shí)的作用。
實例展(zhǎn)示
其他產品電解拋光
3
九陰真(zhēn)經——光蝕刻表麵處(chù)理(lǐ)
光蝕刻表麵處理(Photo Etching):簡稱光刻,利用照相手(shǒu)段製作抗蝕膜像,用來保(bǎo)護表麵,在金屬、塑料等(děng)上麵,借助化學腐蝕(shí)劑進行腐蝕產生表(biǎo)麵紋理的方法。
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典型產品:用於珠寶首飾,銘牌和獎(jiǎng)杯的表麵處理
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產量適合:單件到大批量皆可
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質量:延長(zhǎng)曝光(guāng)和化學物質都可以實現光蝕刻表麵處理
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速度:中等的生產速度(50-100微(wēi)米/5分鍾)
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適用材料:1.大(dà)多是金屬都適合光(guāng)蝕刻表麵處(chù)理,最常見的有不鏽鋼,軟鋼,鋁(lǚ),黃銅(tóng),鎳,錫,銅和銀。其中鋁材的光蝕刻速度最快,而不(bú)鏽鋼的光蝕刻速度最慢。
2.玻璃(lí),陶瓷也適合光蝕刻表麵處理(lǐ),隻是需要不(bú)同的光阻(zǔ)蝕劑(jì)和化學物質(zhì)。
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工藝成本:1.模具費用(yòng)低2.人力成本中等
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環境影響:光蝕刻產生的金(jīn)屬廢屑須做可控回收(shōu);用(yòng)於光蝕刻的化學物(wù)質還有三分之一的氯化(huà)鐵(tiě),而且也會用苛性鈉(火(huǒ)堿)來處理廢棄的感(gǎn)光膠片,這兩種(zhǒng)化學物質都(dōu)是有害的(de),所以操作人員在處理時需要穿防護服。
實例展示
金(jīn)屬標牌的光蝕刻
4
九陽神功——移印工藝